晶圓代工廠商如果想要研發全新的制程工藝，那么就需要更加先進的光刻機，而現在最為先進的EUV光刻機幾乎都被ASML所壟斷，而現在有消息稱ASML計劃在年底出貨最新一代的光刻機，產能大幅提升，可以為今后的2nm工藝制程做準備。

作為目前EUV光刻機領域的絕對領導者，ASML的EUV光刻機也經過了多次迭代，讓能效以及產能大幅提升，目前ASML出貨的最新光刻機為NXE：3600D，而下半年將要出貨的是NXE：3800E光刻機，與目前的光刻機相比，NXE：3800E光刻機的曝光能力達到了30mJ/cm2，這個性能水平相當于每小時能夠制造195片晶圓，經過優化后產能可以達到220片晶圓，與目前的光刻機相比提升了30%，很顯然產能的提升也將減緩現在高端芯片產能供應不足的局面。

至于價格的話，屬于行業機密了，不過有報道稱NXE：3600D光刻機的售價超過了1.5億美元，也就是10億元人民幣，那么更加先進的NXE：3800E光刻機應該來說只會更加昂貴，畢竟現在整個市場就是ASML說了算，而且光刻機也是供不應求，包括三星、英特爾以及臺積電都將選用ASML的最新一代的光刻機，如果下半年順利交付的話，加上調試、安裝等時間，預計三星可以在明年將這款光刻機用于2nm制程晶圓的生產之中。

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